האסטלויC4היא סגסוגת המורכבת מניקל, כרום ומוליבדן. היא נחשבת מאוד לסגסוגת הרב-תכליתית ביותר למאבק בקורוזיה. סגסוגת זו מפגינה עמידות בפני היווצרות משקעים בגבול הגרעינים כאשר היא נחשפת לחום ריתוך, מה שהופך אותה למתאימה למגוון יישומים של תהליכים כימיים במצבה המולחם. בנוסף, סגסוגתC4מפגין עמידות יוצאת דופן בפני סדקים כתוצאה מקורוזיה, סדקים כתוצאה ממאמץ ואטמוספרות מחמצנות עד 1900°F. יש לו עמידות יוצאת דופן למגוון רחב של סביבות כימיות.
יישומים:
1. תעשיית נייר: מפעלי עיכול ומלבינה.
2. סביבות גז חמוץ: רכיבים החשופים לגז חמוץ.
3. מתקני סילוק גזי פליטה: ציוד המשמש במתקני סילוק גזי פליטה.
4. סביבות חומצה גופרתית: מאיידים, מחליפי חום, מסננים ומערבלים המשמשים בסביבות חומצה גופרתית.
5. כורי חומצה גופרתית: ציוד המשמש בכורי חומצה גופרתית.
6. תהליך כלוריד אורגני: ציוד המשמש בתהליך כלוריד אורגני.
7. תהליכי זרז הליד או חומצי: ציוד המשמש בתהליכים המשתמשים בזרזים הליד או חומצי.
צִיוּן | C276 | C22 | C4 | B3 | N | ||
כִּימִי הֶרכֵּב (%) | C | ≤0.01 | ≤0.015 | ≤0.015 | ≤0.02 | ≤0.01 | 0.04-0.08 |
Mn | ≤1 | ≤0.5 | ≤1 | ≤1 | ≤3 | ≤1 | |
Fe | 4-7 | 2-6 | ≤3 | ≤2 | ≤1.5 | ≤5 | |
P | ≤0.04 | ≤0.02 | ≤0.04 | ≤0.04 | – | ≤0.015 | |
S | ≤0.03 | ≤0.02 | ≤0.03 | ≤0.03 | – | ≤0.02 | |
Si | ≤0.08 | ≤0.08 | ≤0.08 | ≤0.1 | ≤0.1 | ≤1 | |
Ni | לָנוּחַ | לָנוּחַ | לָנוּחַ | לָנוּחַ | ≥65 | לָנוּחַ | |
Co | ≤2.5 | ≤2.5 | ≤2 | ≤1 | ≤3 | ≤0.2 | |
טיטניום + נחושת | – | – | ≤0.7 | – | ≤0.4 | ≤0.35 | |
אל+טי | – | – | – | – | ≤0.5 | ≤0.5 | |
Cr | 14.5-16.5 | 20-22.5 | 14-18 | ≤1 | ≤1.5 | 6-8 | |
Mo | 15-17 | 12.5-14.5 | 14-17 | 26-30 | ≤28.5 | 15-18 | |
B | – | – | – | – | – | ≤0.01 | |
W | 3-4.5 | 2.5-3.5 | – | – | ≤3 | ≤0.5 | |
V | ≤0.35 | ≤0.35 | – | 0.2-0.4 | – | ≤0.5 |
150 0000 2421